五靶頭等離子射頻磁控濺射儀

• 更新時間：2022-11-21
• 產品型號：VTC-5RF
• 廠商性質：經銷商
• 產品品牌：合肥科晶
• 產品廠地：國外
• 訪問次數：1414

VTC-5RF五靶頭等離子射頻磁控濺射儀(yi) 是一款5靶頭的等離子射頻磁控濺射儀(yi) ，針對於(yu) 高通量MGI（材料基因組計劃）薄膜的研究。特別適合用於(yu) 探索固態電解質材料，通過5種元素，按16種不同配比組合。

VTC-5RF五靶頭等離子射頻磁控濺射儀(yi)

產(chan) 品概述：

VTC-5RF五靶頭等離子射頻磁控濺射儀(yi) 是一款5靶頭的等離子射頻磁控濺射儀(yi) ，針對於(yu) 高通量MGI（材料基因組計劃）薄膜的研究。特別適合用於(yu) 探索固態電解質材料，通過5種元素，按16種不同配比組合。

主要特點：

• 多種濺射靶頭及電源可選，自由組合，具體請致電我公司銷售部。 
• 根據所使用的電源（DC或RF），可以沉積金屬或非金屬材料。 
• 一個旋轉開關可以依次激活濺射頭，可在真空或等離子體環境中自動切換，不影響真空度。 
• 可以安裝五種不同材料的靶材，每個靶頭可單獨設置濺射時間功率等參數，用於生長不同成分的薄膜。 
• 可選購多個射頻電源，同一時間濺射多個靶材。 
• 可選配設備控製軟件，用電腦控製濺射的所有參數。

濺射腔體(ti) ：

• 真空腔體采用304不鏽鋼製作 
• 腔體內部尺寸: 470mm L×445mm D×522mm H  (105 L) 
• 鉸鏈式腔門，直徑為Φ380mm,上麵安裝有Φ150mm的玻璃窗口

濺射頭&樣品台：

• 5個1英寸的磁控濺射頭，帶有水冷夾層
• 濺射腔體內安裝有電動擋板 
• 濺射距離:濺射距離可調
• 濺射角度:濺射角度可調 
• 實驗時，需要將靶材和靶材的銅墊片用導電銀漿粘合粘合，（可在本公司購買導電銀漿） 
• 可以單獨訂購RF連接線作為備用
• 設備需要一台水冷機，用於靶頭冷卻

樣品台：

• 直徑為150mm的樣品台，上麵覆蓋一旋轉台，帶有10mm的孔洞，每次露出一個樣品接收濺射成膜。 
• 樣品台尺寸：Φ150mm,可通過程序控製來旋轉，可製作16種不同組分的薄膜 
• 樣品台可以加熱，高溫度可達600℃（根據配置不同可能會有變動，具體請谘詢銷售部）

真空係統：

• 安裝有KF40真空接口 
• 真空度：4.0e-5Torr(分子泵）（參考值，具體請點擊） 
• 可在本公司選購各種真空泵

進氣：

• 設備上配1/4英寸進氣口方便連接氣瓶 
• 設備前麵板上裝有一氣流調節旋鈕，方便調節氣流

靶材：

• 所要求靶材尺寸：直徑為25mm,大厚度3mm 
• 可在本公司選購各種靶材

薄膜測厚儀(yi) （可選）：可在本公司選購薄膜測厚儀(yi) 安裝在濺射儀(yi) 上

淨重：60Kg（不包括泵)

質量認證：CE認證

使用提示：

• 此設備為DIY設備，參數變化較大購買前請務必電話仔細溝通
• 為了得到的薄膜質量，必須通入高純氣體（建議> 5N） 
• 在濺射鍍膜前，確保濺射頭、靶材、基片和樣品台的潔淨 
• 要達到薄膜與基底良好結合，請在濺射前清潔基材表麵 
• 超聲波清洗（詳細參數點擊下麵圖片）：（1）丙酮超聲（2）異丙醇超聲-去除油脂（3）吹氮氣幹燥（4）真空烘箱除去水分。 
• 等離子清洗（詳細參數點擊下麵圖片）：可表麵粗糙化，可激活表麵化學鍵，可祛除額外的汙染物。 
• 製造一個薄的緩衝層（5納米左右）：如Gr，Ti，Mo，Ta，可以應用於改善金屬和合金的附著力。

警告：

• 注意：產品內部安裝有高壓元件，禁止私自拆裝，帶電移動機體。 
• 氣瓶上應安裝減壓閥（設備標配不包括），保證氣體的輸出壓力限製在0.02兆帕以下，以安全使用。
• 濺射頭連接到高電壓。為了安全，操作者必須在關閉設備前裝樣和更換靶